Hızlı Isıl İşlem (RTP), belirli bir ısıl işlem sürecini elde etmek için hızlı ısıtma ve soğutma elde etmek amacıyla kızılötesi lamba ısıtma teknolojisi ve boşluk soğuk duvar teknolojisinin kullanılmasıdır. Başlıca uygulama alanı, entegre devre alanı (silikonla temsil edilen birinci nesil yarı iletken) ve optoelektronik alanı (galyum arsenit ile temsil edilen ikinci nesil yarı iletken) ile temsil edilen yarı iletken alanıdır. Yarı iletken sürecinde, ısıl işlem/tavlama temel bir işlemdir, çünkü yarı iletken cihazlar, metal elektrotların yardımcı olmasını gerektiren elektrik sinyallerinin girişi/çıkışı anlamına gelen işlevselleştirmeyi elde etmek üzere tasarlanmıştır. İyi bir temas elde etmek için, tavlama/difüzyon süreciyle optimize edilmesi gerekir. Elbette, metal alaşımlama, hızlı tavlama fırınının en önemli işlevlerinden yalnızca biridir ve diğer ilgili alanlarda başka uygulamaları da vardır.
İlk olarak üretici
Söylendiği gibi, sert olmanız gerekir! İyi bir ürün, iyi bir girişimden ayrılamaz! Bir girişim, kullanıcı beklentilerini karşılayan bir ürün yaratmak için patentlerin ve teknoloji çökeltilerinin birikiminden geçmeli ve pazardan ve kullanıcı zihniyetinden ayrılmamalıdır. Bu nedenle, hızlı tavlama fırını seçimi öncelikle üreticinin sert mukavemetini dikkate almalıdır!